高纯三氯化硼用作硅和锗外延、扩散和离子注入过程的P型掺杂源。用于光导纤维、药品和耐热涂料的制造。还可用作铝的气相刻蚀剂。制造IMDRAM需用三氯化硼,可提高集成电路产率。
德和化工高纯氦气,纯度以99.999%(5N)为主,严苛品控与稳定供应链为核心,精准解决普通氦气纯度不足、杂质超标、供应不稳三大痛点,为高端制造、科研医疗、精密检测提供高性能惰性气体解决方案。
德和化工聚焦科研用高纯气体、激光混合气体及常规工业气体等产品。深耕石化、半导体、医药、食品、科研等关键领域。